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離子半導(dǎo)體CSG-58-160-2A-GR

離子半導(dǎo)體CSG-58-160-2A-GR

  • 規(guī)格:CSG-58-160-2A-GR
  • 產(chǎn)地:日本
近日有消息顯示, 萬業(yè)企業(yè) (600641.SH)全資子公司凱世通的低能大束流集成電路離子注入機(jī)已搬進(jìn)杭州灣潔凈室,目前正在根據(jù)集成電路芯片客戶工藝要求,進(jìn)行離子注入晶圓驗證。





業(yè)內(nèi)人士指出,這標(biāo)志著公司已具備先進(jìn)制程的低能大束流離子注入整機(jī)工藝驗證的能力,未來有望為全球先進(jìn)制程邏輯、存儲、5G射頻、攝像頭CIS、功率半導(dǎo)體等不同應(yīng)用領(lǐng)域芯片客戶提供離子注入工藝驗證服務(wù),提升客戶晶圓制造能力與芯片性能。

瞄準(zhǔn)離子注入機(jī)夯實半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈基礎(chǔ)

萬業(yè)企業(yè)旗下凱世通聚力發(fā)展的集成電路離子注入機(jī)是半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)中工藝極為復(fù)雜且昂貴設(shè)備之一。離子注入是芯片制造前道工藝中一項必不可少的工藝,每個芯片的制造都需要進(jìn)行20至25次的離子注入,因而離子注入機(jī)的研制是整個半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)。由于離子注入機(jī)的至關(guān)重要,其與光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備和薄膜沉積設(shè)備被并稱為集成電路制造的“四大金剛”。

為快速突破集成電路國產(chǎn)化瓶頸,離子注入機(jī)作為芯片制造必不可少的關(guān)鍵設(shè)備之一,近年也受到國家政策的重點(diǎn)支持。2014年《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》中明確指出離子注入機(jī)是發(fā)展我國集成電路產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵設(shè)備;2017年頒布《戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)重點(diǎn)產(chǎn)品和服務(wù)指導(dǎo)目錄》中列示集成電路離子注入機(jī);2018年發(fā)布《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄》,將中束流、大束流以及高能離子注入機(jī)列入名單;近期,五部委聯(lián)合發(fā)布《關(guān)于調(diào)整重大技術(shù)裝備進(jìn)口稅收政策有關(guān)目錄的通知》,離子注入機(jī)被納入享受相關(guān)稅收優(yōu)惠的范圍。從綱要到各類目錄,可見萬業(yè)企業(yè)專注研發(fā)的離子注入機(jī)等制造裝備已成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈整體騰升過程中必需啃下的硬骨頭。

挑戰(zhàn)尖端工藝低能大束流離子注入機(jī)成主流

隨著集成電路工藝技術(shù)的持續(xù)提升,晶體管不斷縮小,集成電路制程進(jìn)一步向尖端工藝發(fā)展,這對相關(guān)生產(chǎn)制造設(shè)備也提出了更高的要求。在此背景下,萬業(yè)企業(yè)聚焦的技術(shù)含量最高的低能大束流離子注入機(jī)日漸成為主流。根據(jù)浦東投資的統(tǒng)計,目前低能大束流已占有離子注入機(jī)市場份額的55%。

結(jié)合國內(nèi)外集成電路制程技術(shù)路線現(xiàn)狀,凱世通采取“領(lǐng)先一步”的策略、采用有國際競爭力設(shè)計理念,著力研制16納米及以下制程的 FinFET 集成電路離子注入機(jī),并針對研制低能大束流離子注入機(jī)所需要解決的關(guān)鍵技術(shù)和技術(shù)難點(diǎn),建立起相應(yīng)的研發(fā)平臺、相關(guān)核心關(guān)鍵技術(shù)及工藝的研究參數(shù)數(shù)據(jù)庫和性能檢測規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)。

此次凱世通低能大束流離子注入機(jī)的遷機(jī)成功,進(jìn)入離子注入晶圓驗證階段。其產(chǎn)品在低能和大束流等核心指標(biāo),特別是束流強(qiáng)度指標(biāo)上,已達(dá)到或超過國外同類產(chǎn)品,因此可更好的降低單位成本消耗,滿足國內(nèi)集成電路行業(yè)實際應(yīng)用。



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