從最基本的層面上講,CIS用來(lái)將相機(jī)鏡頭的光轉(zhuǎn)換為數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù),以創(chuàng)建可見(jiàn)的圖像。當(dāng)波長(zhǎng)范圍為400至700nm的可見(jiàn)光光能被聚集在硅襯底的光電二極管(PD)上時(shí),CMOS圖像傳感器的硅表面將接收該光能,從而形成電子-空穴對(duì)。
在此過(guò)程中生成的電子通過(guò)浮動(dòng)擴(kuò)散(FD)轉(zhuǎn)換為電壓,然后再通過(guò)模數(shù)轉(zhuǎn)換器(ADC)轉(zhuǎn)換為數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)。最后,數(shù)據(jù)被發(fā)送到處理器,以創(chuàng)建可視的數(shù)字描述,通常為圖像。
生產(chǎn)這種復(fù)雜傳感器需要特定的制造技術(shù),通常分為五類。
1. 深光電二極管形成工藝技術(shù)
由于消費(fèi)者對(duì)圖像質(zhì)量不斷提出更高的需求,導(dǎo)致了業(yè)界的競(jìng)爭(zhēng)加劇,各廠商爭(zhēng)相提高移動(dòng)CIS中的像素密度和分辨率,這種競(jìng)爭(zhēng)反過(guò)來(lái)又進(jìn)一步加速了CIS工藝技術(shù)的發(fā)展。為實(shí)現(xiàn)更高的圖像質(zhì)量,像素尺寸需要進(jìn)一步減小,以便在相同大小的芯片上容納更多的像素。
圖2:光電二極管結(jié)構(gòu)變化以及像素尺寸不斷減小的示意圖。(
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