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根據(jù)SEMI的統(tǒng)計(jì),前道設(shè)備占集成電路設(shè)備整體市場(chǎng)規(guī)模的81%,封裝測(cè)試設(shè)備約占14%。在前道設(shè)備中,刻蝕設(shè)備占比20%,超過(guò)了光刻設(shè)備的占比(18%),化學(xué)沉積設(shè)備、檢測(cè)控制設(shè)備、清洗設(shè)備分別占比15%、11%、6%。2019年中國(guó)大陸地區(qū)半導(dǎo)體設(shè)備銷(xiāo)售額為134.5億美元,按以上比例計(jì)算,則中國(guó)大陸地區(qū)前段設(shè)備每年的市場(chǎng)規(guī)模超過(guò)100億美金,前段的刻蝕機(jī)、光刻機(jī)、化學(xué)沉積設(shè)備年市場(chǎng)規(guī)模分別約為22億美元、20億美元、16億美元。

國(guó)外龍頭企業(yè)占據(jù)全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)大部分份額。目前集成電路設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)則主要集中于歐美、日本、韓國(guó)和臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)。其中起步較早的國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)包括美國(guó)的應(yīng)用材料(AMAT)、泛林半導(dǎo)體(Lam Research)、科天(KLA-Tencor),荷蘭的阿斯麥(ASML),日本的東京電子(TEL)等。2019年,全球半導(dǎo)體設(shè)備市占率前四名為AMAT(18.8%)、ASML(17.6%)、LamResearch(16.8%)、TEL(16.7%),CR3為53.2%,CR5達(dá)到76.3%。


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