顯影后的熱烘培稱為堅(jiān)膜烘培，目的是蒸發(fā)掉硅片光刻膠中剩余溶劑，哈默納科高溫堅(jiān)膜諧波FHA-25C-100-E250從而使光刻膠變硬，提高光刻膠與硅片的粘附性。堅(jiān)膜過(guò)程也可以蒸發(fā)掉殘余在硅片上的顯影液和清洗用水。堅(jiān)膜過(guò)程通常在硅片軌道系統(tǒng)的熱板上，或在生產(chǎn)線上的專用爐中完成。堅(jiān)膜溫度大致為哈默納科高溫堅(jiān)膜諧波FHA-25C-100-E250：正膠130℃，負(fù)膠150℃。

    對(duì)于DNQ酚醛樹脂光刻膠則可使用深紫外線照射進(jìn)行堅(jiān)膜處理哈默納科高溫堅(jiān)膜諧波FHA-25C-100-E250，此方法使正膠樹脂發(fā)生交聯(lián)形成較硬的表面層，增加了光刻膠的熱穩(wěn)定性，可以承受125~200℃等離子刻蝕及離子注入工藝工作溫度。